HITACHI : 日立評論 : 65nmプロセスノードに対応するCD-SEM技術

注：略語説明: CD-SEM（Critical-Dimension Scanning Electron Microscope），MAM （Move, Acquire, Measure），FOUP（Front Opening Unified Pod）

新形のCD-SEM「S-9380形」の外観（左）と主な仕様
　65nmデザインルールプロセスの開発・量産に適合する装置として，300mmウェーハ対応CD-SEMの最新機種「S-9380形」を開発した。

　65nmノード時代の半導体用測長装置であるCD-SEMには，測長再現性のいっそうの向上はもとより，微細化に伴って顕在化してきたパターンラフネスなど新しい課題への対応が求められている。
　日立グループが新たに開発したCD-SEM「S-9380形」は，65nmノード時代を見越して製品化した装置である。この装置が持つ性能を十分に引き出して，いっそうの微細化プロセスに対応するため，現在もさまざまな要素技術を検討している。

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