- 注：略語説明
- SEM（Scanning Electron Microscope），OPC（Optical Proximity Correction）
新型CD-SEM「CG4000」と，設計データ応用システム「DesignGauge」
株式会社日立ハイテクノロジーズは，次世代デバイス製造プロセスの高度な要求に適応する計測装置として新型CD-SEM「CG4000」と，半導体デバイスの設計開発効率や生産歩留りの向上に役立つ設計データ応用システム「DesignGauge」を開発し，製品化した。
次世代露光技術では，液浸技術が採用され，レンズのNA（開口数）1.0以上のHyper-NAの光学系が可能となった。さらに，Low-k1を実現する超解像技術や高度なOPC（光学近接効果補正）技術，ダブルパターニング技術などの採用によって極限の解像度の実現も可能となっているが，安定したパターン形成を確保するには，焦点深度やプロセス裕度の低下への対応が必須である。計測技術では，これらの先端技術に対応するため，測定精度の向上や3D形状表現の高度化を進める必要がある。
新型CD-SEM（測長走査型電子顕微鏡）「CG4000」は，このような市場の動向に対応した次世代対応のCD-SEMである。また，設計データ応用システム「DesignGauge」は次世代露光技術で必須となるOPCモデル高精度化支援，および計測点数の急激な増加傾向にも対応する。
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