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CD-SEMと設計データを活用した新しい計測手法の提案

Challenge to New Metrology World by CD-SEM and Design
腰原 俊介・太田 祥広・栄井 英雄・松岡 良一


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概要図
 
注:略語説明
DFM(Design for Manufacturability)
 
 
DFMへのベストソリューション
 高分解能,高精度測長,高スループットの特長を持つ「CG4000」に代表される測長SEMと新しい計測の価値観を生み出す「DesignGauge」の組み合わせは,DFM(製造性考慮設計)へのベストソリューションと言える。
 

 
 微細化のスピードがますます加速する半導体プロセスにおいて,新規プロセスをスムーズに立ち上げることは,事業の死活問題に直結するような重要なポイントになってきている。
 半導体プロセスを微細化するために,さまざまな施策が講じられており,その一つにアグレッシブOPC(光近接効果補正)がある。アグレッシブOPCの補正および検証をタイムリーに行うためには,今までのルールベースOPCとは異なるデータの流れが必要になる。この新しい流れに一役買うのが,設計データ(デザインデータ)を活用する新しい計測手法である設計データ計測システム(デザインベースメトロロジーシステム)の「DesignGauge」である。さらに,「DesignGauge」を用いることにより,従来にはなかった測定法や,CD-SEM(測長走査型電子顕微鏡)のアルゴリズムで抽出した輪郭線データを提供することが可能になる。
 
 
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関連リンク

日立ハイテク : 設計データ応用計測システム DesignGauge




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