蛍光X線分析によるめっき膜厚の計測は，非破壊・非接触で多層膜を同時に測定可能な方法であり，電子部品などのめっき膜厚計測用途で広く用いられている。微小化する測定部位の計測を行うには，照射するX線を細く絞る必要がある。

高性能蛍光X線膜厚計FT150シリーズでは，従来のコリメータ方式に代わり，ポリキャピラリX線集光素子を用いることで，試料に照射するX線の強度を1,000倍程度に高めることが可能となり，数十マイクロメートル領域でのナノメートルレベルのめっき膜厚測定のニーズに応えている。本稿では，いくつかの典型的な試料での実測例を通じて，達成された測定精度を紹介する。